Besplatna dostava putem Box Now paketomata i Overseas kurirske službe iznad 59,99 €!
Besplatna dostava Overseas kurirskom službom iznad 59.99 €
Overseas 4.99 €
Pošta 4.99 €
DPD 5.99 €
GLS 3.99 €
GLS paketomat 3.49 €
Box Now 4.49 €
Kako kupovati
Pomoć
Dostava
Overseas 4.99 €
Pošta 4.99 €
DPD 5.99 €
GLS 3.99 €
GLS paketomat 3.49 €
Box Now 4.49 €
Besplatna dostava Overseas kurirskom službom iznad 59.99 €
Savjetnik za kupnju
Ovdje smo zbog vas!
+385 21 784 0072
Moj račun
Pridružite se zajednici ljubitelja knjige iz cijelog svijeta i ostvarite mnoštvo pogodnosti.
Izradite besplatni račun
▸
Prazno :-(
0
Besplatna dostava putem Box Now paketomata i Overseas kurirske službe iznad 59,99 €!
Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses.
Jezik
Njemački
Njemački
Knjiga
Meki uvez
Heißdraht-CVD wird als vielversprechende Alternative für das etablierte Plasma Enhanced Chemical Vap...
Cijeli opis
Libristo kod: 02821308
?
121 b
121 b
49.17
€
50 % šanse
Pretražit ćemo cijeli svijet
Kada ću dobiti knjigu?
30 dana za povrat kupljenih proizvoda
Heißdraht-CVD wird als vielversprechende Alternative für das etablierte Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition gesehen. Eine während des Heißdraht-CVD-Prozesses an den Drähten ablaufende, unerwünschte Phasenumwandlung führt nach wenigen Stunden Beschichtung zu mechanischem Versagen der Drähte und damit zu einem Prozessabbruch. In dieser Arbeit wurden Lösungen erarbeitet, um den Beschichtungsprozess über Tage hinweg stabil zu betreiben.
Informacije o knjizi
Puni naziv
Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses.
Autor
Artur Laukart
Jezik
Njemački
Njemački
Uvez
Knjiga - Meki uvez
Datum izdanja
2013
Broj stranica
184
EAN
9783839605288
Libristo kod
02821308
Nakladnici
Fraunhofer Verlag
Dimenzije
148 x 210
